我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相

IT之家 11 月 8 日消息，第九届中国国际进口博览会于 11 月 5 日在国家会展中心（上海）开幕。

本届展会上，上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称 SMEE）带来了自主研发的**新一代前道干式光刻机通用技术平台模型**，正式亮相，展示了我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。


据介绍，SMEE 成立于 2002 年，是**国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商**，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑。

这次展出的模型采用透明剖视设计，可以直观看到整机光学光路与内部机电系统的链路布局。这个平台是一套国产标准化前道光刻装备架构，适配 I-line、KrF 两条主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均已实现**全链条自主可控**，工艺适配能力和产线运行可靠性都比较稳定。

IT之家获悉，**目前国产前道干式光刻机的成像性能已与国际同类领先产品处于同一水平**，套刻精度、生产效率也在紧追国际标杆；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线上长期稳定运行，**累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超 92%**，形成了自主技术可控、国产替代落地、产业链安全可靠的核心优势，可以全面支撑半导体、泛半导体产业的发展需求。

> **延伸阅读**
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> 公开资料显示，SMEE 全称为上海微电子装备（集团）股份有限公司，成立于 2002 年 3 月，位于上海，隶属上海电气集团，注册资本约 2.66 亿元人民币，定位“赋有国家使命的市场化公司”，自“十五”起先后承担了多个国家 IC 前道光刻机研制专项任务。
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> 按半导体制造工序分类，光刻设备分为前道和后道两类：前道光刻机用于晶圆制造，后道则是封装光刻机，精度和价值都远低于前道设备。文中提到的 I-line 与 KrF 都是深紫外（DUV）光源：I-line 波长 365nm，KrF 波长 248nm，两者主要服务成熟制程；另外还有波长 193nm 的 ArF 干式与浸没式方案，其中浸没式能提供 DUV 类别里最高的分辨率和处理能力。
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> 双工件台是提升光刻机产能的关键技术。用上双工作台系统后，光刻机可以在保持速度和加速度稳定的前提下让两个工作台同时运作——一个专注曝光作业，另一个同步进行曝光前的预对准准备，据测算能把生产效率提升约 35%。

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